Où les filtres, les diffuseurs et les évents sont-ils utilisés dans l'industrie Microélectronique ?
Filtres de gaz
Sans une filtration haute efficacité au niveau des particules submicronique, la fabrication des composants microélectroniques serait difficile, voire impossible. Des filtres à gaz spécifiques protègent les processus critiques qui requièrent un environnement sans particules pour la fabrication des dispositifs ayant des caractéristiques pratiquement nanométriques.
La filtration est un composant clé pour la réduction des défauts qui limitent la productivité tout au long des processus des industries microélectroniques. Des particules de taille submicronique présentes dans les gaz inertes et de spécialités utilisées pour les recouvrements « à sec », la diffusion, l'oxydation et les procédés de déposition de métaux peuvent atterrir sur le substrat à traiter et créer des défauts critiques. Dans la gravure au plasma, les gaz corrosifs et réactifs à ultra-haute pureté (UHP) gravent ou éliminent le silicium, les polymères ou certains métaux et requièrent une filtration. Les membranes filtrantes et les matériaux de l'équipement doivent être choisis pour empêcher la corrosion qui contamine les procédés et diminue les rendements.
Diffuseurs de gaz
Les tranches de silicium sont rangées et stockées sous atmosphère inerte à l'intérieur d'une chambre de sas. Les filtres des diffuseurs enlèvent les particules de l'azote UHP entrant et fournissent un flux laminaire « doux » pour éviter d'agiter les particules qui pourraient avoir pénétré et s'être déposées à l'intérieur de la chambre de sas.
Diffuseur d'évent
L'aération des chambres à sas peut être considérablement améliorée avec des diffuseurs d'évent. Il est possible de réduire les cycles d'aération et d'améliorer le débit tout en maintenant un environnement pratiquement libre de particules.
Métaux poreux limiteurs de débit
Les limiteurs de débit en métaux poreux jouent un rôle critique dans les processus de fabrication de composants microélectroniques qui requièrent différents types de gaz de spécialité. Ils permettent de protéger les employés contre les gaz de procédés à hautes pressions, lorsque les vannes ou les régulateurs du système de distribution de gaz tombent en panne. Les contrôleurs du débit massique (MFC) requièrent une pression de vapeur stable pour fournir le contrôle précis requis pour les étapes critiques des procédés de traitement à sec des semi-conducteurs. Les procédés comme le dépôt par couche atomique (ALD), le dépôt en phase vapeur par procédé physique (PVD) et d'autres traitements à sec pour la microélectronique, requièrent des débits précis et extrêmement bas. Lorsque des réglages fins du débit sont requis, le remplacement d'une vanne à aiguille MFC ou microdoseuse par un limiteur d'écoulement en métal poreux est une solution stable et économique. Les limiteurs de débit en métal poreux augmentent la sécurité, stabilisent la pression des conduits et permettent un contrôle précis du débit pour les débits très faibles.
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