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World Class Filtration Solutions
Ohne die Filtration von Partikeln mit einer Größe von unter einem Mikrometer wären diese Mikroelektroniktechnologien schwierig, wenn nicht sogar unmöglich. Spezifische Gasfilter schützen kritische Prozesse, für die eine partikelfreie Umgebung zur Herstellung von Geräten im Nanobereich erforderlich ist.
Die Filtration ist ein wesentlicher Faktor, um ertragsmindernde Defekte in den meisten Produktionsprozessen in der gesamten Mikroelektronikbranche zu reduzieren. Partikel mit einer Größe von unter einem Mikrometer in Edelgasen und Spezialgasen für „trockene“ Implantations-, Diffusions-, Oxidations- und Metallabscheidungsprozesse können auf dem vorgesehenen Substrat landen und fatale Defekte verursachen. Beim Plasmaätzen werden zum Ätzen oder Beseitigen von Silikon, Polymeren oder bestimmten Metallen Korrosions- und Reaktionsgase von höchster Reinheit eingesetzt. Dafür ist Filtration erforderlich. Es müssen Filtermembrane und Hardwarematerialien ausgewählt werden, die Korrosion und die daraus resultierende ertragsmindernde Prozessverunreinigung verhindern.
Wafer werden in einer inerten Atmosphäre, die in Schleusenkammern erzeugt wird, aufgestellt und gelagert. Verteilerfilter entfernen Partikel aus dem einströmenden UHP-Stickstoff und sorgen für einen „weichen“ Laminarfluss und halten störende Partikel fern, die sonst in die Schleusenkammer eindringen und sich dort ablagern könnten.
Die Entlüftung von Schleusen kann mit Lüftungsverteilern extrem verbessert werden. Die Entlüftungszykluszeiten können reduziert und der Durchfluss dadurch verbessert werden. Gleichzeitig wird eine nahezu partikelfreie Umgebung aufrecht erhalten.
Durchflussbegrenzer aus porösem Material spielen bei mikroelektronischen Prozessen, für die verschiedene Spezialgase erforderlich sind, eine kritische Rolle. Arbeiter werden vor gefährlichen Prozessgasen mit hohem Druck geschützt, wenn Ventile oder Regler bei der Gasverteilung versagen. Massendurchflussregler (MFC) hängen von einem stabilen vorgelagerten Druck ab, um die derzeitigen kritischen Halbleiter-Trockenprozessschritte genau überwachen zu können. Für die Atomlagenabscheidung (ALD), die physikalische Dampfabscheidung (PVD) sowie andere mikroelektronische Trockenprozesse sind sehr niedrige und präzise Durchflussraten erforderlich. Wenn eine minimale Anpassung des Durchflusses erforderlich ist, ist der Ersatz des MFC oder des Mikrometernadelventils mit einem Durchflussbegrenzer aus porösem Material eine stabile und kostengünstige Lösung. Durchflussbegrenzer aus porösem Metall erhöhen die Sicherheit, stabilisieren den Leitungsdruck und bieten eine präzise Durchflussüberwachung bei sehr geringen Durchflussraten.
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