Fabrication de Semi-Conducteurs
Les filtres de Porvair Filtration Group pour le point d'utilisation (POU) sont fabriqués dans des conditions de salle blanche classe 100 en utilisant un système de certification de la qualité ISO 9001. Les filtres sont soudés avec précision sous atmosphère purifiée dans une boîte à gants spécialement conçue à cet effet. Un rinçage à l'eau désionisé puis un rinçage à haute pression à l'azote filtré à 0.003μm enlèvent les particules et préviennent la chute de particules.
Nos filtres POU sont séchés sous vide à moins de 10 ppb d'humidité et les composés organiques sont inférieurs à 10 ppb THC. La manipulation et l'emballage de nos filtres POU s'effectuent dans une atmosphère libre de particules, chimiquement propres, sans composants organiques, pour maximiser leur propreté au moment de leur installation au sein des applications microélectroniques les plus exigeantes. Les produits Porvair dépassent les exigences de filtration de gaz haute pureté pour les processus de fabrication de semi-conducteurs. Les produits haute qualité de Porvair subissent des tests stricts pour assurer leur conformité en termes d'efficacité de la filtration, de précision du contrôle du débit et des exigences de sécurité pour les systèmes de distribution de gaz dans les usines de semi-conducteurs.
Applications
- Production de tranches de silicium
- Chips pour ordinateurs et tablettes
- Chips pour téléphones portables
- Chips pour capteurs IdO et dispositifs de contrôle
- Systèmes microélectromécaniques (MEMS)
- Disques durs.
Caractéristiques et avantages
- 100 % testé pour les fuites
Pour éviter l'exposition à des gaz de procédé inflammables, corrosifs, toxiques et pyrophoriques, les boîtiers du filtre sont contrôlés à 100 % pour les fuites d'hélium à plus de 1x10-9 ATM scc / seconde.
- Résistance à la corrosion
Surface électro-polie supérieure à 5Ra pour prévenir la corrosion Les surfaces mouillées sont électro-polies pour améliorer le rapport Chrome / Fer de la couche de surface et minimiser la formation de particules de corrosion.
- Fabrication sans particules
Les particules sont éliminées par des nettoyages et des rinçages approfondis à l'eau désionisée et à l'azote sous pression dans une salle blanche classe 100.
- Médias de filtration ultra fins
Notre filtre homologué à 9 LRV pour 0,003μm particules par SEMI F38 en utilisant les méthodes de test ISO 12500, élimine toutes les particules générées par la corrosion et les particules générées par les pièces mobiles comme les régulateurs de pression, les vannes et les MFC utilisés dans les systèmes de distribution de gaz.
- Résistance mécanique
Les médias filtrants GasPro™ sont testés pour assurer une prestation de qualité supérieure dans les processus de fabrication, pour les outils qui utilisent une pression de gaz élevée et dans des environnements opérationnels difficiles.
- Dépasse les exigences
Porvair Filtration Group satisfait les exigences des normes de l'industrie établies par des organisations comme Semiconductor Equipment and Materials International et il est membre de SEMI Corporate.
Industries