Fabricación de Semiconductores

Los filtros para punto de uso (POU) de Porvair Filtration Group se fabrican en las más innovadoras salas blancas de clase 100 bajo el sistema de certificación de calidad ISO 9001. Los filtros se sueldan de forma precisa en una caja de guantes diseñada específicamente para ello con purificación de atmósfera. El lavado de agua desionizada y, posteriormente, el lavado de nitrógeno filtrado a alta presión de 0,003 μm se encargan de eliminar las partículas y previene el desprendimiento de partículas.

Nuestros filtros para punto de uso se secan al vació para conseguir menos de 10 ppb de humedad, y menos de 10 ppb de THC en los elementos orgánicos. El hecho de que los filtros estén libres de partículas, limpios químicamente, aumenta la limpieza para instalaciones en las aplicaciones microelectrónicas más exigentes. Al exceder los requisitos de filtración de gas de alta pureza para el procesado de semiconductores, los productos de alta calidad de Porvair se prueban de forma exhaustiva para garantizar que cumplen con la eficacia de filtración crítica, un control de caudal preciso y los requisitos de seguridad necesarios para los sistemas de suministro de gas en la fabricación de semiconductores.

Aplicaciones

• Producción de obleas
• Chips para ordenadores y tabletas
• Chips para teléfonos móviles
• Chips para sensores IoT y dispositivos de control
• Sistemas micro-electromecánicos (MEMS)
• Unidades de disco duro.

Características y ventajas

• Comprobación por seguridad contra fugas al 100%
  Las carcasas de filtro están testadas 100% contra fugas de helio a más de 1x10^-9 atm scc/seg. para prevenir la exposición a gases de proceso inflamables, corrosivos, tóxicos y pirofóricos.

• Resistencia frente a la corrosión
  Electropulido a una superficie de índice 5 de rugosidad media para prevenir la corrosión. Electropulimos las superficies mojadas para mejorar el ratio de cromo a hierro en la capa de la superficie, con la finalidad de reducir la presencia de partículas generadas por la corrosión.

• Fabricación libre de partículas
  El lavado a fondo con agua desionizada y nitrógeno a alta temperatura en las salas blancas de clase 100 elimina las partículas.

• Medios de filtración extremadamente fina
  La eficiencia de los filtros (9 LRV por 0,003 μm de partículas por SEMI F38) y los métodos de prueba según la norma ISO 12500 eliminan las partículas generadas por la corrosión y las partículas generadas por el movimiento de piezas como reguladores de presión, válvulas y controladores de flujo másico utilizados en los sistemas de distribución de gas.

• Fuerza mecánica
  Los medios de filtro GasPro™ se han probado para asegurar un servicio de alta calidad en los procesos de fabricación y en las herramientas que habitualmente utilizan presiones altas de gas y entornos de servicio más robustos.

• Por encima de los estándares
  Porvair Filtration Group cumple con los estándares industriales fijados por organizaciones como SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) y es un miembro corporativo de la misma.

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