Herstellung von Halbleitern
Die POU-Filter (Point of Use) der Porvair Filtration Group werden mithilfe eines ISO9001-zertifizierten Qualitätssystems in einem hochmodernen Reinraum der Klasse 100 hergestellt. Die Filter sind in einer speziell entwickelten Glove-Box mit Atmosphärenreinigung präzisionsgeschweißt. Ein deionisierter Wasserstrahl gefolgt von einem filtriertem 0.003μm Hochdruckstickstoffstrahl entfernt die Partikel und verhindert den Abrieb der Partikel.
Unsere POU-Filter sind je nach Bedarf auf unter 10 ppb Feuchtigkeit vakuumgetrocknet, und die organischen Stoffe haben einen THC-Wert von unter 10 ppb. Der Transport und die Verpackung der POU-Filter frei von Partikeln, chemisch rein und frei von organischen Stoffen maximiert deren Reinheit direkt aus der Verpackung für Installationen in schwierigsten mikroelektronischen Anwendungen. Die hochwertigen Produkte von Porvair übersteigen die Anforderungen der Halbleiterverarbeitung an die Filtration des hochreinen Gastransports. Sie werden ausgiebig getestet um sicherzustellen, dass sie die Anforderungen an die kritische Filtrationseffizienz, präzise Durchflusskontrolle und Sicherheit für Gaszufuhrsysteme in der Halbleiterherstellung erfüllen.
Anwendungen
- Waferproduktion
- Chips für Computer und Tablets
- Chips für Mobiltelefone
- Chips für IoT-Sensoren und Steuergeräte
- Mikroelektromechanische Systeme (MEMS)
- Festplattenlaufwerke.
Eigenschaften und Nutzen
- 100% auf Leckdichtheit getestet
Zur Vermeidung der Exposition gegenüber entzündlichen, korrosiven, toxischen und luftentzündlichen Prozessgasen sind die Filtergehäuse zu 100% auf Heliumdichtigkeit getestet (über 1x10-9 atm scc/Sekunde).
- Korrosionsbeständigkeit
Zur Vermeidung von Korrosion auf eine Oberflächengüte von 5Ra elektrisch poliert. Die benetzten Oberflächen werden elektrisch poliert, so dass das Chrom-Eisen-Verhältnis der Oberfläche verbessert wird und damit die durch Korrosion entstehenden Partikel auf ein Minimum begrenzt werden.
- Partikelfreie Herstellung
Ausgiebiges Reinigen und Spülen mit deionisiertem Wasser und Hochdruckstickstoff in einem Reinraum der Klasse 100 eliminiert sämtliche Partikel.
- Extrem feine Filtrationsmedien
Aufgrund der Filterleistung von 9 LRV bei 0.003μm Partikel pro SEMI F38 und ISO 12500 Testmethoden werden alle durch Korrosion entstandenen Partikel sowie alle durch bewegliche Teile wie zum Beispiel die in Gasförderanlagen verwendeten Druckregler, Ventile und MFCs entstandenen Partikel entfernt.
- Mechanische Festigkeit
GasPro™-Filtermedien werden getestet, um einen hervorragenden Betrieb bei Herstellungsprozessen und für Tools mit häufig hohem Gasdruck und schwierigen Betriebsbedingungen zu gewährleisten.
- Standards werden überschritten
Die Porvair Filtration Group erfüllt die von den Organisationen festgelegten Industriestandards, wie zum Beispiel den Standard für Halbleitergeräte und Materialien, und ist ein SEMI-Unternehmensmitglied.
Industriezweige